图1为掺杂不同Ce02含量的YSZ涂层的X射线衍射图谱。由图1可见，涂层主要由稳定的四方（t）相组成，20CSZ涂层中还含有少量的CeO2相。四方（t）相是由立方晶体结构Ce02与部分稳定的四方相Zr02在等离子弧喷涂过程中发生反应所形成的固溶体。可见，掺杂Ce02的加入并没有使tZr02向mZr02晶体结构发生转变.
图1掺杂不同含量涂层的衍射图谱
图2为不同Ce02含量的Zr02涂层的截面形貌。Zr02涂层存在由表面向过渡层界面延伸的贯穿性小裂纹，但20%的涂层的裂纹更加曲折。在冷却过程中，由于陶瓷涂层和粘接层收缩不同产生的应力而造成.随着Ce02含量的增加，ZrO2涂层内部的微裂纹和闭合孔洞的数量及大小均有所减少，组织更加致密，涂层与过渡层的界面结合更好。
图2不同CeO2含量的ZrO2涂层的截面形貌
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