从表1中可以看出，涂层的显微硬度有上升的趋势，这主要由于由两方面的原因：第一、根据x射线衍射图谱分析获知，提高喷涂的功率，涂层中钼的氧化物的量有所增加，钼的氧化物相对比较硬，硬的氧化物弥散分布涂层中会提高涂层整体硬度。第二、提高喷涂功率、涂层的致密度提高，涂层中气孔缺陷降低等等都会对涂层的硬度有所贡献。
表1电流改变对涂层显微硬度的影响
注：其它工艺参数为：电压55V、喷涂主气压力为0.68MPa、次气压力0.55MPa、主气流量30L/min、送粉速度8g/min、喷涂距离100mm。
但是功率太高后，喷涂电流超过550A后涂层中钼的氧化物急剧升高后，涂层中生成氧化物挥发后留下气孔，导致涂层疏松，涂层显微硬度会降低，耐磨性也会随之降低。涂层中的气孔一旦贯穿到工件后，涂层对基体的耐腐蚀、耐氧化等特性将会消失。
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