等离子喷涂用Ta粉为不规则多角块状（图1a），EDS分析表明，该粉末中除含有元素Ta外，还有极少量源于样品表面吸附的O和C（图1b）。图1c为Ta粉的XRD谱。可知该Ta粉中含有a-Ta相及Ta2H等氢化物相。氢化物的产生是由于在制备Ta粉的过程中，引入了氢化步骤，有部分H原子进入了Ta的晶格。
图1金属Ta粉末的SEM像、EDS和XRD谱
钽基涂层表面含有大量a-Ta和少量Ta2O5相，其XRD谱（图2）中未出现非晶相的包状衍射峰。虽在喷涂过程中采用惰性Ar气为主气，但等离子焰流中仍混有一定量空气及其等离子体，Ta粉未熔滴在随焰流飞行和到达涂层基底后冷却的过程中，发生少量氧化反应，生成Ta2O5。由此通过等离子喷涂制备了Ta2O5原位复合但基涂层。
图2钽基涂层的XRD谱
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