不同喷涂距离下高锰硅涂层的表面与断裂面的微观形貌如图1所示。在喷涂距离为80mm时,由于喷涂距离较近在涂层表面形成较多的细小颗粒团聚,在对应的断裂面照片中,扁平粒子的层状结构不明显,粒子内部有较多来不急逸出的气体形成的规则球状气孔,扁平粒子间夹杂细小的粉末及未熔颗粒。随着喷涂距离的增大,粒子在等离子射流中的飞行时间增加,粒子温度提高。在100mm喷涂距离下,细小颗粒构成的疏松团簇结构转为熔融粒子“抱团”的紧密凸起,对应的断裂面照片中,粒子扁平化程度提高,层状堆叠特征明显,与80mm下的高锰硅涂层相比,气孔、孔洞缺陷显著降低。
图1不同喷涂距离高锰硅涂层表面与断裂面形貌
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