日本丰桥科技大学的拙井义秀等人研究了在反应性等离子喷涂中钛粒子的氮化过程及氮化钛涂层制备的控制方法，并评价了该涂层的特性。直流(DC)大气等离子喷涂(APS)对钛粒子的氮化是在粒子飞行中的液态下进行的，可以在控制各喷涂条件下控制氮化钛涂层的制备。大气等离子喷涂(APS)的涂层是多孔质，并产生氧化物。直流低压Ar-N2等离子喷涂(LPPS)的涂层不产生氧化物，但得不到氮化度高的涂层。
